日韓貿易戰升溫，日本宣布管制高純度氟化氫(Hf)、光阻劑(photoresist, PR)及氟化聚醯亞胺 (Fluorine Polyimide)出口至韓國，HF主要用在半導體製程中的清潔及蝕刻所需而PR主要用在半導體元件定義圖型及結構所需，已經是所有半導體元製程中不可缺少的化學材料。任何最基本的半導體製程相關訓練都會特別提到Hf的重要性及危險性，俗稱為蝕骨水。另外，之前台積電也因光阻劑瑕疵事件，導致大量晶圓報廢，可看出其在晶圓生產過程關鍵地位。雖然日本半導體技術近幾年來已開始落後於台灣、韓國、美國等半導體大廠，但全世界半導體廠不可或缺的關鍵性材料仍是由日本掌握。這次的材料出口限制，三星已表示會影響到其先進7nm已下製程的出貨及開發。
半導體製程所需的Hf，需要將雜質控制在兆分之一以下的水平，同時在生產相關設備上也須採用特殊合金設備，以防止生產上的安全疑慮。日本企業在高純度Hf領域佔有 8 到 9 成市場份額，長期下來累積了相當多技術，因此對韓國來說，想要達到材料自產仍有幾分難度。
此外，除了上述材料外，許多made in japan的材料已經是達到市占率8成以上的隱型冠軍!
#台灣半導體技術已和日本不相上下(某些領域已大幅領先)
#但關鍵材料技術仍大部分被日本公司掌握
#跟著老司機了解商業競爭後面的技術競賽
延伸閱讀:
日本為什麼這麼強？掌握關鍵材料「微實力」全球制霸
https://finance.technews.tw/2019/08/10/japan-firms-key-materials-micro-strength/?fbclid=IwAR3G3FtgLBnC8Rk3ZWsHI_4Yyk-6yA-Gq06vmmlHlgr8HJo8JxnY2BLB32A
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